大家好，今天小編關(guān)注到一個(gè)比較有意思的話題，就是關(guān)于上海消費(fèi)科技創(chuàng)新展的問題，于是小編就整理了1個(gè)相關(guān)介紹上海消費(fèi)科技創(chuàng)新展的解答，讓我們一起看看吧。
說到光刻機(jī)，那就是國(guó)人的痛處，畢竟被卡脖子的感覺真的太難受了，其實(shí)我們?cè)诎雽?dǎo)體領(lǐng)域被卡脖子的不只是光刻機(jī)，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈里面，我們能夠自主掌握技術(shù)的不到一半，還有一半要靠外國(guó)的先進(jìn)設(shè)備和技術(shù)做支撐，認(rèn)為只要突破光刻機(jī)技術(shù)就能不受到卡脖子，那其實(shí)就有點(diǎn)想的太簡(jiǎn)單了。
光刻機(jī)的確是非常重要的環(huán)節(jié)，曾經(jīng)在六十年代的時(shí)候，我們的光刻機(jī)水平其實(shí)并不比歐美的差，在六十年代的時(shí)候，我們的機(jī)械領(lǐng)域其實(shí)也并沒有說落后太明顯，只是在特殊的十年當(dāng)中，導(dǎo)致了我們落后，這還只是開始，在八十年代的時(shí)候，由于西方先進(jìn)產(chǎn)品進(jìn)入國(guó)內(nèi)市場(chǎng)的影響，又導(dǎo)致了我們?cè)诎司攀甏e(cuò)過了機(jī)會(huì)。
這樣總共失去三十年的時(shí)間，就是因?yàn)檫@樣才導(dǎo)致了中間的空白期沒辦法彌補(bǔ)，就算我們后面這二十年的時(shí)間在發(fā)力，但是也很難真正的短時(shí)間內(nèi)趕上，畢竟別人也并沒有在原地踏步，我們?cè)谶M(jìn)步別人也一樣在前進(jìn)，中間還存在著代差，加上原本工業(yè)基礎(chǔ)的薄弱，才有了現(xiàn)在的這種情況。
目前市場(chǎng)上我們能夠自行生產(chǎn)的光刻機(jī)精度只有90納米級(jí)別，中芯國(guó)際升級(jí)的14納米技術(shù)其實(shí)并不是我們自己生產(chǎn)的設(shè)備，這個(gè)就很尷尬了，雖然說上海微電跟科學(xué)院聯(lián)合研發(fā)出來了28納米的光刻機(jī)技術(shù)，但是這個(gè)目前來說也只是在實(shí)驗(yàn)室里面的數(shù)據(jù)，離組裝到現(xiàn)實(shí)中使用，還不知道要到什么時(shí)候。
全球半導(dǎo)體前道光刻機(jī)長(zhǎng)期由ASML、佳能、尼康三家公司所壟斷，三家公司占據(jù)了99%的市場(chǎng)份額。ASML市場(chǎng)份額常年高達(dá)60%以上，呈現(xiàn)霸主壟斷地位，ASML已經(jīng)完全地壟斷了超高端光刻機(jī)領(lǐng)域，而佳能則完全退出高端市場(chǎng)，憑借價(jià)格優(yōu)勢(shì)盤踞在中低端市場(chǎng)。
上海微電子（SMEE）成立于2002年，其主產(chǎn)品SSX600系列步進(jìn)掃描投影光刻機(jī)滿足90nm、110nm、280nm芯片前道光刻工藝的要求，可以用于8英尺、12英尺大規(guī)模工業(yè)生產(chǎn)。毫無疑問上海微電子早已經(jīng)能夠生產(chǎn)光刻機(jī)，相比較于1984年4月成立的ASML，上海微電子疑問是芯片制造光刻機(jī)領(lǐng)域的后起之秀，經(jīng)過20余年的發(fā)展逐漸縮小了和光刻巨頭之間的差距，上海微電子在全球后道封測(cè)光刻機(jī)領(lǐng)域高達(dá)40%的占有率。
光刻原理其實(shí)特別簡(jiǎn)單，就跟我們?cè)谏碁┥蠒裉?yáng)一樣，光線能直接照射到的地方皮膚就會(huì)呈現(xiàn)黝黑的顏色，而被遮擋的地方皮膚就會(huì)呈現(xiàn)白皙的顏色。早期的光刻機(jī)其實(shí)和照相機(jī)顯影技術(shù)并無二致，所以也就能理解為什么做照相機(jī)的佳能和尼康為什么會(huì)闖入光刻機(jī)領(lǐng)域。
基于光刻機(jī)的原理很簡(jiǎn)單，早期的芯片工藝制程水平也并不高，所以我國(guó)大致是在1965年前后擁有光刻機(jī)。1445所在1977年就研制成功了一臺(tái)接觸式光刻機(jī)GK-3。接觸式光刻就是直接將掩膜直接貼到硅片上用燈光照射，這種工藝最難的地方在于要在底片上刻出1微米分辨率的線條，而光照并不是太大的難題。這么說想必大家要翹尾巴了，要知道西方在1978年就已經(jīng)推出了成熟的分布投影光刻機(jī)了。拜讀過《朱煜：精密事業(yè)》就知道我們的半導(dǎo)體工業(yè)為什么會(huì)落后別人一大截，國(guó)情使然，這里就不再大篇幅陳述。
如今的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)已經(jīng)成為了一個(gè)全球性的巨大產(chǎn)業(yè)鏈條，我們已經(jīng)完全有能力生產(chǎn)7nm甚至更低nm的芯片，關(guān)鍵在于我們的材料和設(shè)備受制于人，高端光刻設(shè)備對(duì)于光學(xué)技術(shù)和供應(yīng)鏈要求極高，擁有極高的技術(shù)壁壘，是全球產(chǎn)業(yè)鏈整合出來的產(chǎn)品，比如ASML光刻機(jī)的光源來自美國(guó)、鏡頭來自德國(guó)、閥件來自法國(guó)，這些不是有錢就能買得到的，因?yàn)闅W美國(guó)家對(duì)我們實(shí)施了技術(shù)封鎖。
到此，以上就是小編對(duì)于上海消費(fèi)科技創(chuàng)新展的問題就介紹到這了，希望介紹關(guān)于上海消費(fèi)科技創(chuàng)新展的1點(diǎn)解答對(duì)大家有用。
