大家好,今天小編關(guān)注到一個(gè)比較有意思的話題,就是關(guān)于上海消費(fèi)科技創(chuàng)新展的問題,于是小編就整理了1個(gè)相關(guān)介紹上海消費(fèi)科技創(chuàng)新展的解答,讓我們一起看看吧。
說到光刻機(jī),那就是國(guó)人的痛處,畢竟被卡脖子的感覺真的太難受了,其實(shí)我們?cè)诎雽?dǎo)體領(lǐng)域被卡脖子的不只是光刻機(jī),半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈里面,我們能夠自主掌握技術(shù)的不到一半,還有一半要靠外國(guó)的先進(jìn)設(shè)備和技術(shù)做支撐,認(rèn)為只要突破光刻機(jī)技術(shù)就能不受到卡脖子,那其實(shí)就有點(diǎn)想的太簡(jiǎn)單了。
光刻機(jī)的確是非常重要的環(huán)節(jié),曾經(jīng)在六十年代的時(shí)候,我們的光刻機(jī)水平其實(shí)并不比歐美的差,在六十年代的時(shí)候,我們的機(jī)械領(lǐng)域其實(shí)也并沒有說落后太明顯,只是在特殊的十年當(dāng)中,導(dǎo)致了我們落后,這還只是開始,在八十年代的時(shí)候,由于西方先進(jìn)產(chǎn)品進(jìn)入國(guó)內(nèi)市場(chǎng)的影響,又導(dǎo)致了我們?cè)诎司攀甏e(cuò)過了機(jī)會(huì)。
這樣總共失去三十年的時(shí)間,就是因?yàn)檫@樣才導(dǎo)致了中間的空白期沒辦法彌補(bǔ),就算我們后面這二十年的時(shí)間在發(fā)力,但是也很難真正的短時(shí)間內(nèi)趕上,畢竟別人也并沒有在原地踏步,我們?cè)谶M(jìn)步別人也一樣在前進(jìn),中間還存在著代差,加上原本工業(yè)基礎(chǔ)的薄弱,才有了現(xiàn)在的這種情況。
目前市場(chǎng)上我們能夠自行生產(chǎn)的光刻機(jī)精度只有90納米級(jí)別,中芯國(guó)際升級(jí)的14納米技術(shù)其實(shí)并不是我們自己生產(chǎn)的設(shè)備,這個(gè)就很尷尬了,雖然說上海微電跟科學(xué)院聯(lián)合研發(fā)出來了28納米的光刻機(jī)技術(shù),但是這個(gè)目前來說也只是在實(shí)驗(yàn)室里面的數(shù)據(jù),離組裝到現(xiàn)實(shí)中使用,還不知道要到什么時(shí)候。
全球半導(dǎo)體前道光刻機(jī)長(zhǎng)期由ASML、佳能、尼康三家公司所壟斷,三家公司占據(jù)了99%的市場(chǎng)份額。ASML市場(chǎng)份額常年高達(dá)60%以上,呈現(xiàn)霸主壟斷地位,ASML已經(jīng)完全地壟斷了超高端光刻機(jī)領(lǐng)域,而佳能則完全退出高端市場(chǎng),憑借價(jià)格優(yōu)勢(shì)盤踞在中低端市場(chǎng)。
上海微電子(SMEE)成立于2002年,其主產(chǎn)品SSX600系列步進(jìn)掃描投影光刻機(jī)滿足90nm、110nm、280nm芯片前道光刻工藝的要求,可以用于8英尺、12英尺大規(guī)模工業(yè)生產(chǎn)。毫無疑問上海微電子早已經(jīng)能夠生產(chǎn)光刻機(jī),相比較于1984年4月成立的ASML,上海微電子疑問是芯片制造光刻機(jī)領(lǐng)域的后起之秀,經(jīng)過20余年的發(fā)展逐漸縮小了和光刻巨頭之間的差距,上海微電子在全球后道封測(cè)光刻機(jī)領(lǐng)域高達(dá)40%的占有率。
光刻原理其實(shí)特別簡(jiǎn)單,就跟我們?cè)谏碁┥蠒裉?yáng)一樣,光線能直接照射到的地方皮膚就會(huì)呈現(xiàn)黝黑的顏色,而被遮擋的地方皮膚就會(huì)呈現(xiàn)白皙的顏色。早期的光刻機(jī)其實(shí)和照相機(jī)顯影技術(shù)并無二致,所以也就能理解為什么做照相機(jī)的佳能和尼康為什么會(huì)闖入光刻機(jī)領(lǐng)域。
基于光刻機(jī)的原理很簡(jiǎn)單,早期的芯片工藝制程水平也并不高,所以我國(guó)大致是在1965年前后擁有光刻機(jī)。1445所在1977年就研制成功了一臺(tái)接觸式光刻機(jī)GK-3。接觸式光刻就是直接將掩膜直接貼到硅片上用燈光照射,這種工藝最難的地方在于要在底片上刻出1微米分辨率的線條,而光照并不是太大的難題。這么說想必大家要翹尾巴了,要知道西方在1978年就已經(jīng)推出了成熟的分布投影光刻機(jī)了。拜讀過《朱煜:精密事業(yè)》就知道我們的半導(dǎo)體工業(yè)為什么會(huì)落后別人一大截,國(guó)情使然,這里就不再大篇幅陳述。
如今的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)已經(jīng)成為了一個(gè)全球性的巨大產(chǎn)業(yè)鏈條,我們已經(jīng)完全有能力生產(chǎn)7nm甚至更低nm的芯片,關(guān)鍵在于我們的材料和設(shè)備受制于人,高端光刻設(shè)備對(duì)于光學(xué)技術(shù)和供應(yīng)鏈要求極高,擁有極高的技術(shù)壁壘,是全球產(chǎn)業(yè)鏈整合出來的產(chǎn)品,比如ASML光刻機(jī)的光源來自美國(guó)、鏡頭來自德國(guó)、閥件來自法國(guó),這些不是有錢就能買得到的,因?yàn)闅W美國(guó)家對(duì)我們實(shí)施了技術(shù)封鎖。
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