大家好,今天小編關(guān)注到一個比較有意思的話題,就是關(guān)于發(fā)展我國的高科技企業(yè)的問題,于是小編就整理了1個相關(guān)介紹發(fā)展我國的高科技企業(yè)的解答,讓我們一起看看吧。
小編,你問有哪些企業(yè)研究光刻機有什么企圖,盜取企業(yè)機密還是其它什么不可告人的秘密?
現(xiàn)在敵特,間諜就在各個網(wǎng)上潛水,如果有些人說,我們公司正在研制什么什么,他就盯上你了,伺機找到適合他們的目標,加以策反,你不要說“我不會的,我沒那么傻”,人不是萬能的,總有弱點,所以說,在國家重點單位的人,涉及到技術(shù)的問題,最好不要在網(wǎng)上提及,央視播放過好多反間諜的視頻,大家可以看看。
目前國內(nèi)研究光刻機的企業(yè)不少,因為光刻機實在太重要了。
由于光刻的工藝水平直接決定芯片的制程水平和性能水平,光刻成為 IC 制造中最復雜、最關(guān)鍵的工藝步驟, 光刻的核心設(shè)備——光刻機更是被譽為半導體工業(yè)皇冠上的明珠。目前最先進的是第五代 EUV光刻機,采用極紫外光,可將最小工藝節(jié)點推進至 7nm。由荷蘭 ASML制造。
國內(nèi)光刻機技術(shù)比較先進,已經(jīng)量產(chǎn)的應該是上海微電子裝備有限責任公司(簡稱SMEE),已經(jīng)實現(xiàn)90nm的量產(chǎn),目前正在研究65nm的工藝。
其他的包括 合肥芯碩半導體有限公司、先騰光電科技有限公司、無錫影速半導體科技有限公司等一些企業(yè),在光刻機上衣和有自己的成果。
但這些光刻機企業(yè),目前還是在原來的道路上一步一步往前走,相信只要努力,未來也能達到很高的水平。但對于光刻機行業(yè)來說,他們的追趕速度雖然很快,但技術(shù)進步的速度也是很快。所以,他們只能持續(xù)在低端方面,占有一定的市場份額。
如果要進入高端市場,目前國內(nèi)最先進的光刻機技術(shù),應該是中科院光電技術(shù)研究所的技術(shù)成果。
2018年11月29日,新華社報道稱,國家重大科研裝備研制項目“超分辨光刻裝備研制”29日通過驗收。據(jù)悉,該光刻機由中國科學院光電技術(shù)研究所研制,光刻分辨力達到22納米,結(jié)合雙重曝光技術(shù)后,未來還可用于制造10納米級別的芯片。
也就是中國科學院光電技術(shù)研究所的這個成果,直接將中國光刻機技術(shù)向前推進好幾代。
當然,這個科研成果,距離完整實現(xiàn)量產(chǎn),還有好幾個關(guān)卡要過。
目前有哪些中國企業(yè)在研究光刻機?光刻機是一個高精度高復雜集百年工業(yè)制造之結(jié)晶的一種高科技產(chǎn)品,目前除了荷蘭的阿斯麥能夠批量生產(chǎn)7nm光刻機之外,基本上再沒有任何一家企業(yè)有著這樣雄厚的技術(shù)實力。我國目前也僅有四家企業(yè)在研究,并且各自有各自的領(lǐng)域優(yōu)勢。
1、上海微電子裝備有限責任公司。上海微電成立于2002年3月,鄰近國家集成電路產(chǎn)業(yè)基地、國家半導體照明產(chǎn)業(yè)基地和國家863信息安全成果產(chǎn)業(yè)化(東部)基地等多個國家級基地。該公司自主研發(fā)的600系列光刻機,已經(jīng)實現(xiàn)90nm的量產(chǎn),目前正在研究65nm的工藝。
2. 合肥芯碩半導體有限公司。合肥芯碩半導體有限公司成立與2006年4月,是國內(nèi)首家半導體直寫光刻設(shè)備制造商。該公司自主研發(fā)的ATD4000,已經(jīng)實現(xiàn)最高200nm的量產(chǎn)。不過按照目前最新消息其已經(jīng)申請破產(chǎn)清算,主要是光刻機對研發(fā)的投入資金是在太大,又沒有成熟的產(chǎn)品面向市場,終究難免面臨倒閉的風險。上海微電子也是通過快速占領(lǐng)光刻后道工藝技術(shù),迅速占領(lǐng)國內(nèi)80%市場份額,才得以生存。
3. 無錫影速半導體科技有限公司。無錫影速成立于2015年1月,影速公司是由中科院微電子研究所聯(lián)合業(yè)內(nèi)子資深技術(shù)團隊、產(chǎn)業(yè)基金共同發(fā)起成立的專業(yè)微電子裝備高科技企業(yè)。該公司已經(jīng)成功研制用于半導體領(lǐng)域的激光直寫/制版光刻設(shè)備,已經(jīng)實現(xiàn)最高200nm的量產(chǎn)。
4.先騰光電科技有限公司
先騰光電成立于2013年4月,已經(jīng)實現(xiàn)最高200nm的量產(chǎn),在2014國際半導體設(shè)備及材料展覽會上,先騰光電亮出了完全自主知識產(chǎn)權(quán)的LED光刻機生產(chǎn)技術(shù),震驚四座。
以上就是目前我國曾經(jīng)或者現(xiàn)在還在研發(fā)光刻機,但是最有實力的還是有國家主導的上海微電子裝備有限責任公司,不僅是在人才上還有在資金技術(shù)實力上都有著希望將中國的光刻機發(fā)揚光大,在未來的光刻領(lǐng)域做出一定的貢獻。
說到光刻機噴子們又開始噴了,咱中國人一千年一萬年都不行,可他們想個沒有原子彈氫彈核潛艇是怎樣造出來的,高錢盾構(gòu)機咱中國也沒有引進呀!先解決有無現(xiàn)在怎么樣光刻機研制出來只是時間問題,你你看看人家荷蘭開始了賣給咱們了,這是為什么呢?這是為什么呢?
光刻機是芯片生產(chǎn)中不可少的關(guān)鍵設(shè)備,而且光刻機的技術(shù)門檻極高,整個設(shè)備的不同部位采用了世界上最先進的技術(shù),德國的光學設(shè)備、美國的計量設(shè)備等,可以說是“集人類智慧大成的產(chǎn)物”。
全球最先進的EUV光刻機全球只有荷蘭的ASML生產(chǎn),占據(jù)了光刻機市場高達80%的市場。Intel、臺積電、三星的光刻機都來自于與ASML。
最頂尖的光刻機不是荷蘭一個公司制造的,集合了許多國家最先進技術(shù)的技術(shù)支持,可以說是多個國家國家共同努力的結(jié)果,比如德國的光學鏡頭、美國的計量設(shè)備等。ASML將這些來自不同國家的3萬多個配件,分為13個系統(tǒng),需要將誤差分散到13個系統(tǒng),如果德國的光學設(shè)備做的不準、美國的光源不準,那么ASML瞬間就是失去了精神。
相較于荷蘭、德國、美國等這些國家,我國的芯片制造以及超精密度機械制造方面不具有優(yōu)勢。再加上《瓦森納協(xié)定》的技術(shù)封鎖,因此,在高端光刻機領(lǐng)域,我國可以收仍然是空白。
上海微電子裝備有限公司(SMEE)是我國國內(nèi)唯一能夠做光刻機的企業(yè)。上海微電已經(jīng)量產(chǎn)的光刻機中,性能最好的是SSA600/200工藝,能夠達到90nm的制程工藝,相當于2004年奔四CPU的水平。因此,國內(nèi)晶圓廠所需要的高端光刻機完全依賴進口。
目前,最先進的光刻機是ASML的極紫外光刻(EUV),用于7nm、5nm光刻技術(shù),對于EUV光刻關(guān)鍵技術(shù),國外進行了嚴重的技術(shù)封鎖。我國在2017年,多個科研單位合作經(jīng)過7年的潛心鉆研,突破了EUV關(guān)鍵技術(shù)。根據(jù)相關(guān)資料披露,計劃2030年實現(xiàn)EUV光刻機國產(chǎn)化。
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最先進的光刻機是阿麥斯,核心技術(shù)卻在日本!
說到光刻機,我們腦海中第一個跳出來的是阿麥斯(ADSL),可是你不知道的是:經(jīng)過日本對韓國半導體原材料的禁售,我們豁然發(fā)現(xiàn),原來在芯片制造中,真正實力雄厚的還是日本。這也是為什么當時的美國通過多種手段,將日本的半導體進行層層剝奪的原因,雖是如此,日本的半導體材料品類繁多,高純度氟化氫、光刻膠和氟化聚酰胺等等,都是不得忽略的半導體原材料;清洗、干燥設(shè)備和勻膠顯影機仍然占用壟斷地位。
在西南證券的統(tǒng)計中,光刻機被荷蘭阿斯麥(ASML)和日本的尼康(Nikon)及佳能(Canon)壟斷,雖然阿麥斯占據(jù)了75.3%,可是也不能忽略尼康和佳能的優(yōu)勢:
實際上,一套晶圓的制造,關(guān)鍵的設(shè)備有光刻機、刻蝕機、PVD和CVD等,在刻蝕機上,我們中國的發(fā)展還是不錯的,早在2018年,就報道稱中微半導體設(shè)備公司將在2018年底正式敲定5nm刻蝕機,但是我們唯一的遺憾是在光刻機!
其實,中國光刻機雖然發(fā)展沒有荷蘭以及日本的迅速,可是我們卻在努力中,我們很熟悉的是上海微電子裝備有限公司(SMEE)。目前它有四大系列,分別是200系列光刻機、300系列光刻機、500系列光刻機、600系列光刻機。
以600系列光刻機來說,目前通過使用四倍縮小倍率的投影物鏡、工藝自適應調(diào)焦調(diào)平技術(shù)等等,能夠制造出90nm、110nm、280nm關(guān)鍵層和非關(guān)鍵層的光刻工藝需求。確實這方面和阿麥斯還是有差異,但是不可否認,在關(guān)鍵元器件禁運情況下,微電子能夠有這么大的收獲,實屬不易,在今年3月份,微電子今年年底將量產(chǎn)28nmHKC+工藝,在2020年底則將量產(chǎn)14nmFinFET工藝。
另外一個不得不提到的是中科院,根據(jù)新華社的報道,中科院的“超分辨光刻裝備研制”于2018年11月29日通過驗收,它的光刻分辨力達到22nm,結(jié)合雙重曝光技術(shù)后,未來還可用于制造10nm級別的芯片。
這里的意義在于中科院通過一種新的繞開知識產(chǎn)權(quán)壁壘方式,實現(xiàn)一種全新的,技術(shù)難度比較高的技術(shù),通過光投影在金屬上,通過電子的震動產(chǎn)生電磁波,從而用來光刻,雖然技術(shù)難度高,可是要是能夠真正的實現(xiàn),將對于我國有更為長遠的影響。
到此,以上就是小編對于發(fā)展我國的高科技企業(yè)的問題就介紹到這了,希望介紹關(guān)于發(fā)展我國的高科技企業(yè)的1點解答對大家有用。