大家好，今天小編關注到一個比較有意思的話題，就是關于目前的科技發(fā)展狀況有哪些的問題，于是小編就整理了1個相關介紹目前的科技發(fā)展狀況有哪些的解答，讓我們一起看看吧。
先來介紹什么是光刻機。光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機。在生產芯片過程中，由于集成電路很細，就比如麒麟980芯片是7nm工藝的，就代表該芯片中電路寬度為7nm，并且電路數(shù)量動輒幾億甚至幾十億條，顯然不能用機械雕刻，這就需要用“光”來雕刻電路，這就是光刻機的用途。
為了達到目的，科學家在金屬上覆蓋上一層光刻膠，然后利用光刻機去照射，那些被光線照射到的光刻膠就消失了，然后再用化學物質腐蝕，那么電路的形狀就出來了?？梢?，光刻機在芯片、電路板的生產過程中多么重要。
正是因為光刻機的精度高、技術要求高，光刻機的價格一直居高不下，動輒幾千萬美元。更可氣的是最先進的光刻機美國不賣給中國，這也是為什么國內芯片達不到高精度，連生產工具都掌握在別的國家手里，生產出的芯片還能比得過別的國家嗎？
非常遺憾的是，現(xiàn)在國內的光刻機還處于起步階段，水平落后世界很多。目前國內能夠量產的光刻機只能夠光刻90nm的大規(guī)模集成電路，跟最先進7nm的設備差距可以說是極大的。
就在上周四新華社發(fā)文稱，國家重大科研裝備研制項目——“超分辨光刻裝備研制”在成都成功通過專家組驗收。報道稱該設備是世界上首臺用紫外光源實現(xiàn)了22納米分辨率的光刻機。筆者也有幸去了中科院光電所旁聽此次驗收會，寫了報道，還算熟悉，無法茍同一些漫無邊際的瞎扯。
中科院研發(fā)的這臺光刻機并不能用來CPU，只能用在一些技術要求較低的場景。在驗收會上有記者問：該光刻設備能不能打破國外芯片的壟斷？光電所專家回答說，光刻機用于芯片需要還攻克大量技術難題，目前距離還很遙遠。
從目前來看，中國是有能力研發(fā)光刻機的，也成功量產了許多。但是要和最先進的光刻機比，國內還相差甚遠。不過我們也不需要為之擔憂，在這方面中國本來起步就晚，現(xiàn)在比不過歐美國家也是正常的。都是相信在不久的將來，光刻機這一難題終將被攻克！
對于光刻機來說，目前世界的老大是荷蘭的ASML，而且基本處于壟斷地位，高端市場只此一家，于是很大人就想當然的認為，光刻機技術含量太高，別人做不了，只有ASML能做，這種說法有一定的道理，但并非其他國家就做不了，主要沒人去做高端市場還是因為沒有市場的問題限制了！
ASML起源于荷蘭菲利浦，這公司是家電大企業(yè)，曾經一條龍做終端產品、芯片、光刻機，一個完整的產業(yè)鏈。后來慢慢分工，結果芯片做沒落了，光刻機卻做到了巔峰。光刻機給人的映象就是一臺上億美元，這個看起來很牛，利潤空間也很大。如此高利潤，為何只有ASML一家獨大，其他生產光刻機的企業(yè)包括佳能、尼康，中國的上海微電子等，怎么這些就只能涉及低端產業(yè)，就沒能做出成績來呢？
其實光刻機這個行業(yè)相當?shù)目啵澜缱鲂酒囊簿蛶资移髽I(yè)，高端的也就那么幾家，光刻機一年的市場也就幾十億美元，客戶少，稍不留神沒有接到訂單或者客戶被競爭企業(yè)搶走了，面臨的很可能就是巨額虧損！ASML能夠保持今天的壟斷地位，主要還是這家公司采用了一種全新的商業(yè)模式，與客戶進行了捆綁，英特爾、三星、臺積電等都是這家公司的大股東，然后他們當然就買自家的產品了，于是像佳能、尼康等企業(yè)一看，高端市場已經沒有任何市場了，做出來又賣給誰呢？也就只能放棄了，所以大家都完全放棄了高端光刻機市場，只做中底端。
所以說，光刻機問題是別人技術上做不了嗎？未必，是對手沒法做，市場已經被人壟斷了，做了賣不出去，做了也白做！
但是今天中國面臨一個嚴峻的問題，我們芯片被美國卡了脖子，我國也沒有幾家芯片封裝企業(yè)，一下子搞得中興連芯片都沒有了，還鬧了一段時間恐慌，雖然之后這樣的的限制在我國企業(yè)付出很大代價后解除了，但發(fā)展自己的芯片產業(yè)成為一種必然，尤其是高端芯片！但如果有一天ASML不賣光刻機了呢？
一方面我們有自己的光刻機企業(yè)，但走的也是低端路線，實力不強，因為我國芯片本來就是大量進口，而現(xiàn)在我國企業(yè)和政府都大量的砸錢，希望在近些年盡快將芯片追上來，能夠滿足自給自足！而已中國的眼光，尤其是華為，他們不會看不到未來光刻機被卡脖子的一天？我相信這一天一定會來，因此我國恐怕現(xiàn)在已經開始砸錢，在發(fā)展芯片的同時，也希望用錢將光刻機一并砸出來，這是很有可能的。
光刻機的壁壘更多的其實不是技術，而是市場的需求，是商業(yè)模式的壟斷，一旦舍得投入，我相信光刻機也不是難事！就像看20年我國所有的領域都落后，但今天一看，真要去做，基本都成了，甚至比西方做得更好，相信光刻機也是一樣！
如果荷蘭AMSL的光刻機是一流標準，日本的東芝是二流水平，則中國的光刻機應當在世界三流向二流過渡的水平。因為目前已透露的信息顯示14nm芯片制造需要的光刻機已在試制中，28nm的光刻機已制造完成………正在調整完善中。
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感謝您的閱讀！
我們看一張圖，就知道我們和世界領先的光刻機，差在哪里了：
這種水平的差異是不是很無奈！可是，這是沒有辦法的事情，ASML它就是這么強？它為什么這么厲害？！
可是，我國在這方面卻受到了制約，不僅僅ASML不向我國出售光刻機，就算中芯訂購了一臺，可是“大火”似乎會讓這臺機器延期！更為主要的是：美國為首的國家制定的《瓦森納協(xié)定》，時刻對我們有影響！
好消息是：經過近7年艱苦攻關，中國科學院光電技術研究所，使用365納米波長的光即可生產22nm的工藝的芯片，并且通過高深寬比刻蝕、多重曝光等工藝手段可以實現(xiàn)10nm以下的芯片生產。
可以說這方面的成績，可以為未來打破ASML在光刻機的壟斷做準備，它不但使用了波長更長紫外光，而且成本更低，為未來我們芯片發(fā)展奠定了基礎！
到此，以上就是小編對于目前的科技發(fā)展狀況有哪些的問題就介紹到這了，希望介紹關于目前的科技發(fā)展狀況有哪些的1點解答對大家有用。
