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目前的科技發(fā)展狀況有哪些,目前的科技發(fā)展狀況有哪些方面

Time:2024-04-18 23:14:21 Read:0 作者:

大家好,今天小編關注到一個比較有意思的話題,就是關于目前的科技發(fā)展狀況有哪些的問題,于是小編就整理了1個相關介紹目前的科技發(fā)展狀況有哪些的解答,讓我們一起看看吧。

中國目前光刻機處于怎樣的水平?

先來介紹什么是光刻機。光刻機(Mask Aligner) 又名:掩模對準曝光機。在生產芯片過程中,由于集成電路很細,就比如麒麟980芯片是7nm工藝的,就代表該芯片中電路寬度為7nm,并且電路數(shù)量動輒幾億甚至幾十億條,顯然不能用機械雕刻,這就需要用“光”來雕刻電路,這就是光刻機的用途。

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為了達到目的,科學家在金屬上覆蓋上一層光刻膠,然后利用光刻機去照射,那些被光線照射到的光刻膠就消失了,然后再用化學物質腐蝕,那么電路的形狀就出來了??梢?,光刻機在芯片、電路板的生產過程中多么重要。

正是因為光刻機的精度高、技術要求高,光刻機的價格一直居高不下,動輒幾千萬美元。更可氣的是最先進的光刻機美國不賣給中國,這也是為什么國內芯片達不到高精度,連生產工具都掌握在別的國家手里,生產出的芯片還能比得過別的國家嗎?

非常遺憾的是,現(xiàn)在國內的光刻機還處于起步階段,水平落后世界很多。目前國內能夠量產的光刻機只能夠光刻90nm的大規(guī)模集成電路,跟最先進7nm的設備差距可以說是極大的。

就在上周四新華社發(fā)文稱,國家重大科研裝備研制項目——“超分辨光刻裝備研制”在成都成功通過專家組驗收。報道稱該設備是世界上首臺用紫外光源實現(xiàn)了22納米分辨率的光刻機。筆者也有幸去了中科院光電所旁聽此次驗收會,寫了報道,還算熟悉,無法茍同一些漫無邊際的瞎扯。

中科院研發(fā)的這臺光刻機并不能用來CPU,只能用在一些技術要求較低的場景。在驗收會上有記者問:該光刻設備能不能打破國外芯片的壟斷?光電所專家回答說,光刻機用于芯片需要還攻克大量技術難題,目前距離還很遙遠。

從目前來看,中國是有能力研發(fā)光刻機的,也成功量產了許多。但是要和最先進的光刻機比,國內還相差甚遠。不過我們也不需要為之擔憂,在這方面中國本來起步就晚,現(xiàn)在比不過歐美國家也是正常的。都是相信在不久的將來,光刻機這一難題終將被攻克!

對于光刻機來說,目前世界的老大是荷蘭的ASML,而且基本處于壟斷地位,高端市場只此一家,于是很大人就想當然的認為,光刻機技術含量太高,別人做不了,只有ASML能做,這種說法有一定的道理,但并非其他國家就做不了,主要沒人去做高端市場還是因為沒有市場的問題限制了!

ASML起源于荷蘭菲利浦,這公司是家電大企業(yè),曾經一條龍做終端產品、芯片、光刻機,一個完整的產業(yè)鏈。后來慢慢分工,結果芯片做沒落了,光刻機卻做到了巔峰。光刻機給人的映象就是一臺上億美元,這個看起來很牛,利潤空間也很大。如此高利潤,為何只有ASML一家獨大,其他生產光刻機的企業(yè)包括佳能、尼康,中國的上海微電子等,怎么這些就只能涉及低端產業(yè),就沒能做出成績來呢?

其實光刻機這個行業(yè)相當?shù)目啵澜缱鲂酒囊簿蛶资移髽I(yè),高端的也就那么幾家,光刻機一年的市場也就幾十億美元,客戶少,稍不留神沒有接到訂單或者客戶被競爭企業(yè)搶走了,面臨的很可能就是巨額虧損!ASML能夠保持今天的壟斷地位,主要還是這家公司采用了一種全新的商業(yè)模式,與客戶進行了捆綁,英特爾、三星、臺積電等都是這家公司的大股東,然后他們當然就買自家的產品了,于是像佳能、尼康等企業(yè)一看,高端市場已經沒有任何市場了,做出來又賣給誰呢?也就只能放棄了,所以大家都完全放棄了高端光刻機市場,只做中底端。

所以說,光刻機問題是別人技術上做不了嗎?未必,是對手沒法做,市場已經被人壟斷了,做了賣不出去,做了也白做!

但是今天中國面臨一個嚴峻的問題,我們芯片被美國卡了脖子,我國也沒有幾家芯片封裝企業(yè),一下子搞得中興連芯片都沒有了,還鬧了一段時間恐慌,雖然之后這樣的的限制在我國企業(yè)付出很大代價后解除了,但發(fā)展自己的芯片產業(yè)成為一種必然,尤其是高端芯片!但如果有一天ASML不賣光刻機了呢?

一方面我們有自己的光刻機企業(yè),但走的也是低端路線,實力不強,因為我國芯片本來就是大量進口,而現(xiàn)在我國企業(yè)和政府都大量的砸錢,希望在近些年盡快將芯片追上來,能夠滿足自給自足!而已中國的眼光,尤其是華為,他們不會看不到未來光刻機被卡脖子的一天?我相信這一天一定會來,因此我國恐怕現(xiàn)在已經開始砸錢,在發(fā)展芯片的同時,也希望用錢將光刻機一并砸出來,這是很有可能的。

光刻機的壁壘更多的其實不是技術,而是市場的需求,是商業(yè)模式的壟斷,一旦舍得投入,我相信光刻機也不是難事!就像看20年我國所有的領域都落后,但今天一看,真要去做,基本都成了,甚至比西方做得更好,相信光刻機也是一樣!

如果荷蘭AMSL的光刻機是一流標準,日本的東芝是二流水平,則中國的光刻機應當在世界三流向二流過渡的水平。因為目前已透露的信息顯示14nm芯片制造需要的光刻機已在試制中,28nm的光刻機已制造完成………正在調整完善中。

感謝您的閱讀!

我們看一張圖,就知道我們和世界領先的光刻機,差在哪里了:

  • 上海微電子,光刻機為90nm的ArF,使用波長193nm的激光成像技術。
  • ASML這個目前代表世界最先進水平的企業(yè),目前的光刻機是7nm EUV,使用波長為13.5納米的極紫外光(EUV)!

這種水平的差異是不是很無奈!可是,這是沒有辦法的事情,ASML它就是這么強?它為什么這么厲害?!

  • ASML的技術來自世界各地,它有美國的光柵,德國蔡司的鏡片等等技術的結合,可以說,ASML的光刻機包攬了世界最先進技術。

  • ASML本身就是從飛利浦獨立出來的公司,可以說人才濟濟,而且受到飛利浦的支持,
  • ASML的專利申請量眾多,甚至排在世界前列。
  • 作模式獨特,ASML規(guī)定,你想購買我的產品必須對我進行投資,這樣才能擁有對于ASML產品的優(yōu)先提貨權!所以,ASML獲得了大量的資金支持,從合作伙伴那里還可以獲得技術支持!三星,英特爾,臺積電,海力士等等都是它的股東!

可是,我國在這方面卻受到了制約,不僅僅ASML不向我國出售光刻機,就算中芯訂購了一臺,可是“大火”似乎會讓這臺機器延期!更為主要的是:美國為首的國家制定的《瓦森納協(xié)定》,時刻對我們有影響!

好消息是:經過近7年艱苦攻關,中國科學院光電技術研究所,使用365納米波長的光即可生產22nm的工藝的芯片,并且通過高深寬比刻蝕、多重曝光等工藝手段可以實現(xiàn)10nm以下的芯片生產。

可以說這方面的成績,可以為未來打破ASML在光刻機的壟斷做準備,它不但使用了波長更長紫外光,而且成本更低,為未來我們芯片發(fā)展奠定了基礎!

到此,以上就是小編對于目前的科技發(fā)展狀況有哪些的問題就介紹到這了,希望介紹關于目前的科技發(fā)展狀況有哪些的1點解答對大家有用。

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