大家好，今天小編關(guān)注到一個(gè)比較有意思的話題，就是關(guān)于中國(guó)高科技發(fā)展模式圖的問題，于是小編就整理了1個(gè)相關(guān)介紹中國(guó)高科技發(fā)展模式圖的解答，讓我們一起看看吧。
感謝您的閱讀！
我們看一張圖，就知道我們和世界領(lǐng)先的光刻機(jī)，差在哪里了：
這種水平的差異是不是很無奈！可是，這是沒有辦法的事情，ASML它就是這么強(qiáng)？它為什么這么厲害？！
可是，我國(guó)在這方面卻受到了制約，不僅僅ASML不向我國(guó)出售光刻機(jī)，就算中芯訂購(gòu)了一臺(tái)，可是“大火”似乎會(huì)讓這臺(tái)機(jī)器延期！更為主要的是：美國(guó)為首的國(guó)家制定的《瓦森納協(xié)定》，時(shí)刻對(duì)我們有影響！
好消息是：經(jīng)過近7年艱苦攻關(guān)，中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所，使用365納米波長(zhǎng)的光即可生產(chǎn)22nm的工藝的芯片，并且通過高深寬比刻蝕、多重曝光等工藝手段可以實(shí)現(xiàn)10nm以下的芯片生產(chǎn)。
可以說這方面的成績(jī)，可以為未來打破ASML在光刻機(jī)的壟斷做準(zhǔn)備，它不但使用了波長(zhǎng)更長(zhǎng)紫外光，而且成本更低，為未來我們芯片發(fā)展奠定了基礎(chǔ)！
我國(guó)光刻機(jī)和荷蘭差距巨大，現(xiàn)在荷蘭asml光刻機(jī)已經(jīng)可以生產(chǎn)7nm的芯片，而我國(guó)的光刻機(jī)剛剛實(shí)現(xiàn)90nm的芯片光刻機(jī)功能，差距太大。至少差了五代的產(chǎn)品。
生產(chǎn)我國(guó)光刻機(jī)，代表光刻機(jī)生產(chǎn)最高水平的是上海微電子的前道光刻機(jī)，目前可以生產(chǎn)90nm芯片，而正在研發(fā)65nm的芯片設(shè)計(jì)，這樣的升級(jí)難度比從0到90nm低得多，所以預(yù)計(jì)很快就可以生產(chǎn)65nm和45nm的芯片了。
上海微電子的后道封裝光刻機(jī)已經(jīng)在銷售和出口了，賣的還不錯(cuò)，這個(gè)領(lǐng)域全球市場(chǎng)占有率在40%，所以基礎(chǔ)的實(shí)力還是有的。
關(guān)于國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)目前處于什么水平，網(wǎng)上的各種消息讓人搞的有點(diǎn)亂。一邊有人說我們的光刻機(jī)仍然處于90nm水平，一邊又有人說我們的光刻機(jī)已經(jīng)處于5nm水平了，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)究竟什么水平？
關(guān)于這個(gè)90nm和5nm水平，大部分是混淆了兩個(gè)機(jī)器，雖然這兩個(gè)機(jī)器名字只有一字之差，但是它所代表的意義就大不相同。
國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)水平：目前是90nm水平，其它更加先進(jìn)的仍舊處于實(shí)驗(yàn)室階段，想要實(shí)現(xiàn)商用還需要很長(zhǎng)一段時(shí)間。
2018年時(shí)中科院的“超分辨光刻裝備研制”通過驗(yàn)收，它的光刻分辨力達(dá)到22nm，結(jié)合雙重曝光技術(shù)后，未來還可用于制造10nm級(jí)別的芯片。
但是這也是僅僅處于實(shí)驗(yàn)室階段，也就是想要真正的投入商用還是需要很長(zhǎng)一段時(shí)間。
國(guó)產(chǎn)蝕刻機(jī)水平：中微半導(dǎo)體做的蝕刻機(jī)已經(jīng)達(dá)到了5nm水平，也得到了臺(tái)積電的相關(guān)認(rèn)證，可以說是非常領(lǐng)先的。
這里大部分人就是混淆了這個(gè)光刻機(jī)和蝕刻機(jī)兩個(gè)概念，雖然它們只有一字之差，但是意義卻大不相同。全球能做頂級(jí)蝕刻機(jī)的有好幾家，而能做最頂級(jí)光刻機(jī)的只有荷蘭的ASML一家。
在芯片生產(chǎn)過程中，光刻機(jī)相當(dāng)于在一塊晶圓上復(fù)印了一張畫的圖案（也就是芯片內(nèi)部電路圖的圖案）而蝕刻機(jī)作用就是把光刻機(jī)復(fù)印的圖案進(jìn)行雕刻。
相比于光刻機(jī)，蝕刻機(jī)的地位并不是非常的重要，因?yàn)槿蚍秶茏鲰敿?jí)蝕刻機(jī)的有好幾家廠商，能做頂級(jí)光刻機(jī)的只有ASML一家獨(dú)大。佳能和尼康也可以做光刻機(jī)，但是與ASML根本不是一個(gè)級(jí)別的。
可以說在芯片生產(chǎn)過程中，光刻機(jī)相當(dāng)于一個(gè)人體的頭部起著控制作用，而蝕刻機(jī)只能說是人體的四肢。腦部有選擇性，它可以不用你這個(gè)四肢，也就是換用其它家的頂級(jí)蝕刻機(jī)，而光刻機(jī)就獨(dú)此一家。
目前來看，我國(guó)自研的光刻機(jī)還依然處于制程工藝為90納米的水準(zhǔn)。
這個(gè)水準(zhǔn)的光刻機(jī)，隸屬于第四代步進(jìn)掃描式光刻機(jī)，采用的是波長(zhǎng)為193納米的，深紫外光ArF光源，其制程工藝在135納米-65納米之間。
與浸沒式光刻機(jī)相比差半代，與EUV光刻機(jī)相比差一代。
國(guó)內(nèi)這型制程工藝在90納米的光刻機(jī)，也就是由上海微電子生產(chǎn)的SSX-600/20型光刻機(jī)。
該光刻機(jī)采用了四倍縮小物鏡，自適應(yīng)調(diào)焦調(diào)平技術(shù)，六自由度工件臺(tái)掩膜臺(tái)技術(shù)，可以適應(yīng)8寸或者12寸的晶圓。
也就是說，目前國(guó)內(nèi)最先進(jìn)的光刻機(jī)，也只能達(dá)到90納米的制程工藝，不過經(jīng)過多次曝光之后，估計(jì)制程工藝還會(huì)進(jìn)一步縮小。
而國(guó)際上最先進(jìn)的，制程工藝最低的，就是ASML集成的EUV光刻機(jī)。該光刻機(jī)的制程工藝已經(jīng)達(dá)到了7納米，采用了波長(zhǎng)為13.5納米的EUV光源；鍍了近百層鉬和硅制成薄膜的反射鏡，而薄膜的粗糙度控制在零點(diǎn)幾納米級(jí)別；還有運(yùn)動(dòng)精度誤差控制在1.8納米的雙工件臺(tái)。以上只是EUV光刻機(jī)，最為重要的三大部件。而一整臺(tái)EUV光刻機(jī)是由10萬多個(gè)零部件，且還要經(jīng)過工程師上百萬次的調(diào)試，才可以交付使用。
對(duì)于光刻機(jī)來說，目前世界的老大是荷蘭的ASML，而且基本處于壟斷地位，高端市場(chǎng)只此一家，于是很大人就想當(dāng)然的認(rèn)為，光刻機(jī)技術(shù)含量太高，別人做不了，只有ASML能做，這種說法有一定的道理，但并非其他國(guó)家就做不了，主要沒人去做高端市場(chǎng)還是因?yàn)闆]有市場(chǎng)的問題限制了！
ASML起源于荷蘭菲利浦，這公司是家電大企業(yè)，曾經(jīng)一條龍做終端產(chǎn)品、芯片、光刻機(jī)，一個(gè)完整的產(chǎn)業(yè)鏈。后來慢慢分工，結(jié)果芯片做沒落了，光刻機(jī)卻做到了巔峰。光刻機(jī)給人的映象就是一臺(tái)上億美元，這個(gè)看起來很牛，利潤(rùn)空間也很大。如此高利潤(rùn)，為何只有ASML一家獨(dú)大，其他生產(chǎn)光刻機(jī)的企業(yè)包括佳能、尼康，中國(guó)的上海微電子等，怎么這些就只能涉及低端產(chǎn)業(yè)，就沒能做出成績(jī)來呢？
其實(shí)光刻機(jī)這個(gè)行業(yè)相當(dāng)?shù)目?，全世界做芯片的也就幾十家企業(yè)，高端的也就那么幾家，光刻機(jī)一年的市場(chǎng)也就幾十億美元，客戶少，稍不留神沒有接到訂單或者客戶被競(jìng)爭(zhēng)企業(yè)搶走了，面臨的很可能就是巨額虧損！ASML能夠保持今天的壟斷地位，主要還是這家公司采用了一種全新的商業(yè)模式，與客戶進(jìn)行了捆綁，英特爾、三星、臺(tái)積電等都是這家公司的大股東，然后他們當(dāng)然就買自家的產(chǎn)品了，于是像佳能、尼康等企業(yè)一看，高端市場(chǎng)已經(jīng)沒有任何市場(chǎng)了，做出來又賣給誰呢？也就只能放棄了，所以大家都完全放棄了高端光刻機(jī)市場(chǎng)，只做中底端。
所以說，光刻機(jī)問題是別人技術(shù)上做不了嗎？未必，是對(duì)手沒法做，市場(chǎng)已經(jīng)被人壟斷了，做了賣不出去，做了也白做！
但是今天中國(guó)面臨一個(gè)嚴(yán)峻的問題，我們芯片被美國(guó)卡了脖子，我國(guó)也沒有幾家芯片封裝企業(yè)，一下子搞得中興連芯片都沒有了，還鬧了一段時(shí)間恐慌，雖然之后這樣的的限制在我國(guó)企業(yè)付出很大代價(jià)后解除了，但發(fā)展自己的芯片產(chǎn)業(yè)成為一種必然，尤其是高端芯片！但如果有一天ASML不賣光刻機(jī)了呢？
一方面我們有自己的光刻機(jī)企業(yè)，但走的也是低端路線，實(shí)力不強(qiáng)，因?yàn)槲覈?guó)芯片本來就是大量進(jìn)口，而現(xiàn)在我國(guó)企業(yè)和政府都大量的砸錢，希望在近些年盡快將芯片追上來，能夠滿足自給自足！而已中國(guó)的眼光，尤其是華為，他們不會(huì)看不到未來光刻機(jī)被卡脖子的一天？我相信這一天一定會(huì)來，因此我國(guó)恐怕現(xiàn)在已經(jīng)開始砸錢，在發(fā)展芯片的同時(shí)，也希望用錢將光刻機(jī)一并砸出來，這是很有可能的。
光刻機(jī)的壁壘更多的其實(shí)不是技術(shù)，而是市場(chǎng)的需求，是商業(yè)模式的壟斷，一旦舍得投入，我相信光刻機(jī)也不是難事！就像看20年我國(guó)所有的領(lǐng)域都落后，但今天一看，真要去做，基本都成了，甚至比西方做得更好，相信光刻機(jī)也是一樣！
到此，以上就是小編對(duì)于中國(guó)高科技發(fā)展模式圖的問題就介紹到這了，希望介紹關(guān)于中國(guó)高科技發(fā)展模式圖的1點(diǎn)解答對(duì)大家有用。
