據(jù)外媒3月16日報道，在推出兩代極紫外光刻機之后，ASML已經(jīng)在開發(fā)下一代極紫外光刻機，并計劃于2022年初開始出貨。
ASML在2019年年報中披露，他們正在開發(fā)下一代極紫外光刻機，計劃于2022年初開始出貨，2024/2025年實現(xiàn)量產(chǎn)。
在年報中，ASML還透露，他們正在開發(fā)的下一代極紫外光刻機將采用High-NA技術，比他們目前的極紫外光刻機具有更高的數(shù)值孔徑、分辨率和覆蓋能力。將增加70%。
光刻機是芯片生產(chǎn)中非常關鍵的設備。工藝升級到7nm EUV和5nm后，只有極紫外光刻機才能滿足要求。 ASML是目前唯一一家能夠制造極紫外光刻機的廠商。
ASML生產(chǎn)的極紫外光刻機，光源波長縮短至13.5nm，而極紫外光刻機之前最先進的深紫外光刻機采用的光源波長為193nm。
作為全球唯一一家能夠制造極紫外光刻機的廠商，ASML推出了兩款極紫外光刻機，分別是TWINSCAN NXE:3400B和TWINSCAN NXE:3400C，可用于生產(chǎn)7nm和5nm芯片。后者是最新推出的，去年總共交付了9臺。
ASML的年報顯示，他們去年總共向客戶交付了26臺極紫外光刻機，比2018年的18臺增加了8臺，帶來了27.997億歐元（約合31.43億美元）的收入。
